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石墨坩埚与惰性保护气的关系
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一种晶体生长的石墨坩埚镀碳膜装置,包括加热炉、放置被镀膜石墨坩埚的沉淀室和供气控制器。

加热炉包括炉体、安装在炉体上的加热元件和控温测温器,炉体的炉膛下部设置有用于安放沉淀室的支座;沉淀室包括一端开口的管状本体和封闭管状本体端口的塞子,所述塞子上插有与管状本体内孔相通的进气管和排气管。

举一个跟锗有关的例子。这就体现了其对固体物理和固体电子学的发展的重要作用。锗的熔密度5.32克/厘米3,锗可能性划归稀散金属,锗化学性质稳定,常温下不与空气或水蒸汽作用,但在600~700℃时,很快生成二氧化锗。与盐酸、稀硫酸不起作用。

供气控制器包括输气管系和控制阀,所述输气管系含有两条分别与插入沉淀室管状本体的进气管和插入被镀膜石墨坩埚的进气管连接的输气管,设置有甲烷气体进口和惰性保护气体进口,所述控制阀安装在输气管系的管路上,控制惰性保护气体进入沉淀室管状本体和被镀膜石墨坩埚及控制甲烷气体进入被镀膜石墨坩埚